关于深圳海德的硅片抛光液的特点以及技术指标
硅片抛光液:适用于半导体材料如硅片的表面粗/中抛光,其最大特点是在具有较高抛光去除速率(0.9μm/min)的同时可多次循环使用,循环使用过程中抛光去除速率及抛光后表面质量稳定,有效降低抛光液使用成本。抛光后晶片表面的微粗糙度在 0.2nm以下,已经在国内知名抛光片生产线上使用,完全符合生产应用要求,可替代现有国外同类进口产品。
外观乳白色或微蓝色透明溶液。
硅片抛光液技术指标
含量(以SiO2%计) ——15%-25%
pH值 ——————— 10.8-11.8
比重(20℃) ————— 1.10-1.20
粒径—————————10nm-25nm
粘度(20°C)————小于25c.p
海德公司是专业生产抛光耗材的厂家,其中硅片抛光液是海德公司所生产的抛光液中的一种, 海德公司有专业的实验室研发各种材料的抛光液,可以根据不同材质配置抛光液。欢迎来电咨询、取样:0755-89813868
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