抛光液厂家浅谈几种常见的抛光液磨料的应用

　　抛光液的化学成分及浓度、磨料的种类、大小、形状及浓度、抛光液的粘度、pH值、流速、流动途径对去除率都有影响。其中磨料颗粒的性质直接影响着抛光液的抛光效果，对多余部分的去除、提高抛光片的光洁度起到至关重要的作用。对于每种不同的器件全局抛光过程，抛光液的研磨颗粒也不相同。常用几种氧化物抛光液磨料有:

　　(I) 抛光液磨料Si02

　　二氧化硅是最广泛的抛液研磨颗粒，其主要用于集成电路钨和STI、硬盘驱动器、互连光纤、单晶硅片等的抛光。根据抛光精度的不同，二氧化硅颗粒形状大小也不尽相同。图1.1给出的是用于化学机械抛光的胶体二氧化硅颗粒的照片，其形貌呈均匀球形，颗粒大小分布均匀。

　　(2) 抛光液磨料A12o3

　　氧化铝抛光液可用于集成电路生产过程中层间钨、铝、铜等低膨胀系数的金属作为半导体布线材料及薄膜材料的平坦化加工以及高级光学玻璃、石英晶体及各种宝石的抛光。氧化铝抛光液的应用范围日益广泛，与氧化硅共同成为抛光液磨料的两大支柱。

　　(3)抛光液磨料氧化铈

　　氧化饰可以被用于阴极射线管玻璃的抛光、光学玻璃抛光、平板玻璃抛光、电子和计算机原件的化学机械抛光以及光掩模抛光。纳米氧化饰因其具有强氧化作用，作为层间Si02}:介电层抛光的研磨离子，具有平整质量高抛光速率快、选择性好的优点，成为抛光磨料研究领域中新一代宠儿。

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